Nikon vs ASML: แพ้ไม่ใช่เพราะ “ไม่เก่ง” แต่เพราะโลกชิปชนะด้วย “พันธมิตร”

ถ้าย้อนกลับไปยุค 80–90 เครื่องผลิตชิปคือสนามที่ “ญี่ปุ่นโหดมาก”

และหลายแหล่งเล่าว่า Nikon กับ Canon เคยครองส่วนแบ่งตลาดรวมกันระดับ “ประมาณสามในสี่” ในช่วงกลางยุค 90 (ภาพใหญ่คือญี่ปุ่นเป็นผู้นำในตอนนั้น).

แต่วันนี้ภาพกลับกันสุดขั้ว:

ASML กลายเป็นผู้ผลิตเครื่อง EUV รายเดียวของโลก ซึ่งเป็นเครื่องมือสำคัญของการผลิตชิประดับแนวหน้า.

คำถามคือ…มันพลิกได้ยังไง?

Nikon แพ้ ASML เพราะ “เกมเครื่องผลิตชิป” เปลี่ยนจากการแข่งขันเชิงวิศวกรรมล้วน ๆ ไปสู่การแข่งขันแบบระบบนิเวศ (ecosystem) และเงินทุนระยะยาว โดยจุดเปลี่ยนสำคัญมี 2 ระลอก:

  1. Immersion Lithography: การใช้น้ำบริสุทธิ์คั่นระหว่างเลนส์กับเวเฟอร์เพื่อเพิ่มความละเอียดและยืดอายุเทคโนโลยี 193nm (ASML อธิบายว่าการใช้น้ำบริสุทธิ์ช่วยยืด Moore’s Law และถูกพูดถึงในบริบทการต่ออายุ 193nm)
  2. EUV Lithography: ASML สร้าง ecosystem ระดับโลกและเร่งพัฒนา EUV ด้วยดีล Customer Co-Investment Program ปี 2012 ที่ Intel/TSMC/Samsung ร่วมลงเงิน R&D และถือหุ้น เพื่อเร่ง EUV ให้สำเร็จในอุตสาหกรรม
  3. ผลคือ ASML กลายเป็น “ผู้ผลิต EUV รายเดียว” และ Nikon/Canon เหลือบทบาทหลักในตลาด DUV และโหนดที่ไม่ใช่แนวหน้า

1) จุดเปลี่ยนที่ 1: Immersion Lithography — “น้ำบริสุทธิ์” ที่ช่วยยืดอายุ 193nm

ในช่วงที่ 193nm (ArF) เริ่มชนขีดจำกัด ความคิดที่ช่วย “ต่อชีวิต” ให้เทคนี้คือ

การใช้น้ำบริสุทธิ์เติมช่องว่างระหว่างเลนส์กับเวเฟอร์เพื่อเพิ่มดัชนีหักเห → ได้ความละเอียดสูงขึ้น

ASML มีบทความสรุปชัดว่า “Immersion lithography saved Moore’s Law” และอธิบายหลักการใช้น้ำบริสุทธิ์เพื่อเพิ่มความละเอียดของ 193nm

และฝั่ง Nikon เองก็มีหน้าอธิบายหลักการ immersion ว่าใช้น้ำบริสุทธิ์แทนอากาศเพื่อเพิ่ม resolving power

Insight แบบ KlangTECH:

ในเกมชิป บางครั้งนวัตกรรมที่ชนะ ไม่ใช่ “เปลี่ยนคลื่นแสงให้เล็กลง” ทันที

แต่คือ “หาทางทำของเดิมให้ไปต่อได้” เพื่อซื้อเวลาให้ทั้งอุตสาหกรรม

2) จุดเปลี่ยนที่ 2: EUV — ตอนที่ “ระบบนิเวศ” สำคัญกว่าความสามารถของบริษัทเดียว

EUV ไม่ได้เป็นแค่ “เครื่องมือใหม่” แต่มันคือโครงการระดับอุตสาหกรรม ที่ต้องใช้:

และนี่คือจุดที่ ASML เดินเกมต่างจากคู่แข่งแบบชัดมาก

2.1 ดีลล็อกอนาคต: Customer Co-Investment Program (2012)

ปี 2012 ASML เปิดโครงการ Co-Investment เพื่อเร่ง R&D (รวม EUV) โดยลูกค้าระดับท็อปเข้ามา “ร่วมจ่าย” และ “ร่วมถือหุ้น”

แปลเป็นภาษาธุรกิจ:

ASML ไม่ได้แค่ขายเครื่อง แต่ “ชวนลูกค้ามาร่วมสร้างอนาคต” แล้วล็อกดีมานด์/ความร่วมมือระยะยาวไปพร้อมกัน

2.2 ต่อ ecosystem ด้วยการคุมชิ้นส่วนวิกฤต: Cymer (Light Source)

อีกหมากสำคัญคือ light source

ASML มีหน้า “Cymer | ASML” อธิบายบทบาท Cymer ในการเป็นผู้พัฒนาแหล่งกำเนิดแสงสำหรับลิโธกราฟี

และสื่ออุตสาหกรรมระบุบริบทการควบรวม/ซื้อกิจการ Cymer เพื่อเร่ง EUV

ภาพรวม:

นี่คือการทำให้ supply chain ส่วนสำคัญ “อยู่ในวงควบคุม” ของ ASML มากขึ้นเรื่อย ๆ

3) ผลลัพธ์: ASML กลายเป็นผู้ผลิต EUV รายเดียว

หลายแหล่งอธิบายตรงกันว่า ASML เป็นบริษัทเดียวที่ผลิต EUV lithography machines

และในตลาดลิโธกราฟีรวม (ไม่ใช่เฉพาะ EUV) มีข้อมูลอุตสาหกรรมระบุว่า ASML ครองส่วนแบ่งสูงมากในยุคหลัง โดย Nikon/Canon เหลือสัดส่วนเล็กกว่า

สรุป: เกมนี้จบด้วย “อำนาจที่อยู่ใน supply chain”

ไม่ใช่แค่แบรนด์ที่เคยยิ่งใหญ่ในอดีต

4) บทเรียนใหญ่: “ระบบปิด” vs “ระบบเปิด”

เรื่อง Nikon vs ASML สะท้อนบทเรียนสากลของเทคโนโลยีสมัยใหม่:

ASML ใช้แนวคิด ecosystem แบบเปิด + co-investment + คุมชิ้นส่วนวิกฤต

จน EUV กลายเป็น “กำแพง” ที่คนอื่นข้ามยาก

FAQ

Q: Immersion lithography คืออะไร?

A: เทคนิคที่ใช้น้ำบริสุทธิ์แทนอากาศระหว่างเลนส์กับเวเฟอร์เพื่อเพิ่มความละเอียด ทำให้ 193nm ไปต่อได้

Q: ทำไม EUV ถึงทำให้ ASML กลายเป็นผู้ชนะ?

A: เพราะ EUV ต้องใช้ ecosystem ระดับโลกและทุนสูงมาก และ ASML เร่งโครงการด้วย Co-Investment ปี 2012 จาก Intel/TSMC/Samsung ทั้งเงิน R&D และการถือหุ้น

Q: ASML เป็นผู้ผลิต EUV รายเดียวจริงไหม?

A: มีแหล่งข้อมูลที่ระบุว่า ASML เป็นบริษัทเดียวที่ผลิต EUV lithography machines